TC分享第 209 期

2024 week 52

你永远会低估你一周可以做的事情，在这里记录一下我这周看到的好东西。有些链接可能需要科学上网。

本周摄影

新闻思考

最近一周连续有四个飞机失事的事件：

2024年12月25日，阿塞拜疆航空公司J28243航班在飞往俄罗斯格罗兹尼途中因天气恶劣及无人机袭击被迫改道，于接近哈萨克斯坦阿克套机场时坠毁。这架Embraer E190AR型客机机上共有67人，其中38人遇难，29人幸存但部分受伤。初步调查发现机身尾部有孔洞，可能是外部干扰所致。俄罗斯总统普京就客机在俄领空受到干扰致歉，强调当时俄方正在应对无人机袭击
2024年12月29日，韩国济州航空7C2216航班在全罗南道务安国际机场降落时冲出跑道，与围栏相撞后起火。这架波音737-800飞机从泰国曼谷起飞，机上共有181人，其中179人遇难，2名机组成员幸存。初步调查显示，事故可能因鸟击导致起落架异常，未能正常着陆。目前，事故调查委员会已回收黑匣子以进一步分析。这次事故被认为是韩国航空史上最严重的灾难，对航空业和旅游业造成了重大冲击。
2024年12月28日一架从奥斯陆飞来阿姆斯特丹的荷兰皇家航空公司KLM的飞机起飞后不久被迫紧急降落。此事发生在桑讷菲尤尔（Sandefjord）附近的托普机场（Torp Airport），距离挪威首都约 150 公里。据荷兰皇家航空报道，机上所有乘客均安然无恙。
2024年12月28日晚，加拿大一架客机在哈利法克斯的斯坦菲尔德国际机场着陆时发生事故，飞机一个起落架未能正确展开，飞机在跑道上滑行时左侧起火。

这些事件让人对于飞机的出行安全产生了担忧。不过哈佛大学的一项研究显示，在美国、欧洲和澳大利亚飞行实际上比开车安全得多。飞行的事故率约为1/120万，而致命事故率约为1/1100万，而致命车祸的概率约为1/5000。民航局数据显示，飞机每10亿公里的死亡率为0.003%。而火车尾0.27，汽车则高达2.57。

这四起事件发生时间集中，且两起导致了重大人员伤亡。尽管数据显示航空仍是最安全的交通工具，但接连的负面消息容易放大公众的恐慌心理。这种现象被称为“风险感知不对称”：当罕见的严重事件连续发生时，人们往往忽略统计概率，而倾向于认为风险正在增加。

科技新闻

【1】科学家观测到“负时间” 但时间旅行还是不可能

科学家早就知道，光有时似乎会在进入物质之前，就已经离开了物质。科学家认为这种现象是物质对波的扭曲所造成的错觉。

多伦多大学的一组研究人员通过创新的量子实验证明，上述未进入物质前就已离开的现象，或所谓的“负时间”，并不仅仅是一个理论概念，而是存在于有形的物理意义上，值得仔细研究。

【2】本田日产正式启动合并谈判日本车商整合资源应对中美电动车企

经过连日来的酝酿，日本三大汽车制造商本田汽车、日产汽车和三菱汽车星期一（12月23日）在东京联合宣布，三方已签署谅解备忘录，本田与日产将正式开启合并谈判，三菱则探讨是否要参与合并。

【3】英伟达据报拟在台湾建海外总部台北市：正极力争取

美国人工智能芯片制造商英伟达，据报计划在台湾兴建海外企业总部，优先以台北作为据点，并进一步扩大在当地投资。台北副市长林奕华星期一称，市政府正在极力争取。

【4】伊朗放宽网络限制解禁WhatsApp和谷歌商店

伊朗开始放宽互联网限制，解除对WhatsApp和谷歌应用商店Google Play的禁令。

年度“互联网自由度评分”排名中，伊朗是全球互联网自由度排名倒数第三的国家。只有缅甸等国比伊朗更不自由。

【5】《阿斯麦CEO再提中国落后10-15年》

尽管中芯国际和华为近年来在半导体领域的进步令人印象深刻，但它们与台积电英特尔和三星等行业巨头相比，仍然落后10到15年，光刻设备制造商阿斯麦首席执行官Christophe Fouquet表示。即使中芯国际拥有最先进的DUV（深紫外）设备，也无法以具备成本效益的方式匹敌台积电的制程技术。这是因为中国公司无法获得先进的EUV（极紫外）光刻机。

“通过禁止出口EUV设备，中国将落后西方10到15年，”Christophe Fouquet在接受荷兰《新鹿特丹商业报》（NRC）采访时表示。 “这一点确实产生了影响。”

由于《瓦森纳协定》和美国的制裁，ASML从未向中国交付过其EUV设备。然而，ASML一直在向中国供应先进的DUV光刻设备，例如Twinscan NXT:2000i，这些设备能够生产5nm和7nm级别的芯片。

因此，中芯国际多年来一直利用其第一代和第二代7nm级制程技术为华为生产芯片。这在一定程度上帮助了中国的高科技巨头抵御美国政府的制裁。

在明确无法获得EUV设备后，华为及其合作伙伴开始探索自主研发极紫外光刻技术，旨在建立自己的光刻设备和生态系统。但即使如此，这一过程最快也需要10到15年。作为参考，从基础研究到完成商用设备，ASML及其合作伙伴花费了超过20年的时间来建立EUV生态系统。鉴于许多在1990年代早期和中期开发的技术已经公开，中国企业不必完全从零开始。但到中国的半导体行业开发出低数值孔径（Low-NA）EUV设备时，西方芯片行业可能已经进入高数值孔径（High-NA）甚至超高数值孔径（Hyper-NA）EUV光刻设备时代。

主要担忧并非中国企业将在15年后开发出自主的EUV光刻设备，而是它们可能在未来几年内复制ASML的主流DUV设备（例如Twinscan NXT:2000i）。美国政府正向ASML施压，要求其停止对中国的先进DUV系统进行维护和维修，以与现有的针对中国半导体行业的制裁保持一致。然而，荷兰政府尚未同意这一要求。ASML则希望保留对其在中国设备的控制，以防止敏感信息泄露。如果由中国企业接手设备维护，可能会导致其芯片工厂继续运营但相关技术泄露的风险。

目前，中国企业仍是ASML的主要客户之一，ASML通过向中芯国际、华虹和长江存储出售DUV光刻设备赚取了数十亿美元。但如果中国的光刻设备制造商成功研发出自己的DUV光刻系统（或直接复制ASML开发的技术），未来可能会减少对ASML的采购，并可能开始向中国以外的市场销售这些设备，与ASML形成直接竞争。尽管短期内中国企业不太可能制造出类似Twinscan NXT:2000i的设备，但复制技术稍落后的设备可能相对容易得多。